Fraunhofer-Institut für Silicatforschung ISC
Elektronik
In der Mikroelektronik kommt den verwendeten Materialien und ihren Strukturierungseigenschaften eine wesentliche Rolle zu, um leistungsfähige Bauteile zu realisieren und technische Fortschritte vorzubereiten.
Werkstoffe und Methodik
Anorganisch-organische Hybridpolymere (ORMOCER®) können lithographisch direkt strukturiert und chemisch als Negativresist oder als Positivresist formuliert werden. Um die Miniaturisierung von Chips weiter voranzutreiben, werden von der Halbleiterindustrie neue (lithographische) Strukturierungsverfahren entwickelt, die entsprechend neuartige Resistmaterialien benötigen. Diese Resistmaterialien müssen geeignet sein, Strukturen im Nanometerbereich zu bilden. Sie benötigen eine hohe Sensitivität gegenüber der verwendeten Strahlung und sollten in ihren Ätzeigenschaften anpassbar sein.
Themenschwerpunkte
Das Fraunhofer ISC hat im Bereich der Entwicklung elektronischer Materialien folgende Schwerpunkte:
- Gedruckte Elektronik
- Resistentwicklung
- Materialien für Smart Systems
- Transparente Elektronik
- Schutzlacke
Anwendungsbeispiele
Direkt strukturierbare Smart Materials können die Funktion von mikroelektronischen Bauteilen erhöhen und sind Grundlage für Lösungen für System-on-Chip- und System-in-Package-Konzepten, die die Integration von unterschiedlichen elektronischen Funktionselementen auf kleinstem Raum zum Ziel haben. Das Fraunhofer ISC entwickelt sowohl piezoelektrische Materialien, die als Funktionsresist verarbeitet werden können, als auch Strukturierungstechniken, die für die Herstellung von MEMS und MOEMS geeignet sind.
